高光注塑中的不良缺陷

    為(wei) 了決(jue) 定射出成型產(chan) 品的zui終外觀質量,製造者和需求者都必須對限度樣本達成一致意見,所以所有人都認可射出成型的外觀本來就不存在無缺的質量產(chan) 品的觀點,即:在射出成型中出現融接痕,流痕,光澤不均勻等缺點是必然的,.那麽(me) 射出成型產(chan) 品為(wei) 什麽(me) 一定要有外觀的缺點呢?這是由於(yu) 控製工序的技術不完善的緣故.雖然工序的變數很多,但如果有數值的控製方法總會(hui) 生產(chan) 出一定的質量的產(chan) 品,但是射出成型並非如此,在射出成型過程中,zui重要的幾種因素不能得到有效控製,期中zui有代表性的因素就是不能合適的,的控製模具的溫度,所以塑料物質從(cong) 問世來就存在這種問題.
　　
　　u射出成型中對模具溫度的觀念
　　
　　雖然到目前為(wei) 止在射出成型工廠中還不能控製溫度到希望的水平，但人們(men) 一直在努力想盡辦法去控製模具溫度。從(cong) 其發展過程來看，70年代為(wei) 止，主要使用的是成型溫度較低的範用樹脂，當時的目的是盡可能使模具快速冷卻；到了80年代，更加重視外觀的ABS樹脂等出現，提高了模具溫度，也使外觀質量得到改善。其後有助於(yu) 防止ABS的致命缺點——stresscracking的相關(guan) 概念出現，到了90年代，開始有Polycarbonate等高耐熱性EngineeringPlatic和PEEK，
　　
　　2成型產(chan) 品的變化
　　
　　-成型產(chan) 品的表麵密度得到提高。
　　
　　-低溫模具時產(chan) 品表麵由微細氣泡組成
　　
　　-腐飾pattern的岸地凹槽紋路
　　
　　-收縮＆＃63963；減小
　　
　　-凹痕Sinkmark的去除
　　
　　-焊接紋werdline/流痕Flowmark/澆口痕gatemark/jetting現象等表麵＆＃63847；良現象的去除
　　
　　-去除表麵泡的發生發泡時包含Swirlmark和Silver
　　
　　高光模溫機(速冷速熱)是利用電熱在15秒之內(nei) 將樹脂加熱到熔融溫度
　　
　　成型溫度300，隻加熱模具表麵加熱型心，之後30秒左右使其冷卻到15的超高溫模具溫度控製技術。
　　
　　高光模溫機(速冷速熱)能達到的較好注塑成型條件
　　
　　高光模溫機適用範圍
　　
　　1．PaintlessEnclosure無塗層附件
　　
　　-焊接紋weldline/流痕Flowmark/澆口痕gatemark等*去除
　　
　　-的無光表麵
　　
　　2．SuperGlossypartwithpureblackness具有純黑色的超級平滑配件
　　
　　-塗層得不到的土色超高光澤表麵
　　
　　3．DualeffectofQualityinnovationCostDown
　　
　　-質量改善和成本降低的雙重效果
　　
　　-生產(chan) 性提高/重量減少
　　
　　4．0．10mmExtremethenwallinjectionmolding
　　
　　0.10mm比薄膜結構發泡射出成型更薄
　　
　　5．Soildskinstructuralfoaminjectionmolding
　　
　　固體(ti) 薄膜結構發泡射出成型
　　
　　-超高光澤表麵的發泡射出成型
　　
　　-zui大可使重量減少50%
　　
　　6.Microstructurepatterninginjectionmolding
　　
　　微結構射出成型
　　
　　7．Opticinjectionmoldingproduct光射出成型產(chan) 品
　　
　　-去除棱鏡LCD導光板/塑料硬盤
　　
　　8．PaintlessEMIshieldinjectionmolding無塗EMI屏蔽射出成型
　　
　　-含有金屬纖維/碳纖維產(chan) 品的自由射出成型
　　
　　9．Upgradingtheplasticmetalizingsputtering更的塑料金屬噴敷法和噴鍍法
　　
　　-鍍膜粘著強度提高5倍/超微細方式鍍金
　　
　　高光模溫機使用範例：
　　
　　1．音頻裝飾窗
　　
　　-成型品外觀質量不良如示例蒸著時不良率高
　　
　　焊接絞weldline，噴出Jetting，凹痕Sinkmark，流痕Flowmark，澆口痕gatemark，etc.
　　
　　NC加工費負擔
　　
　　使用速冷速熱模溫機的效果
　　
　　-成型品外觀質量不良改善
　　
　　-Gate選定的容易性
　　
　　2．17＂電腦顯示器導光板
　　
　　17“PCMonitor用去除棱鏡導光板Micropattern岸地凹槽
　　
　　2"手機用去除棱鏡導光板230nmHologram岸地凹槽紋樣